フォトリソグラフィーを行う部屋で、レジストが反応する光を使わない照明になっています。クリーン度は Class10000のプロセス室より高くなっています。 |
通常の部屋よりもほこり(パーティクル)の少ないデバイス作製のプロセス室です。 | クリーンルームへ入室するための準備を行う部屋です。着物及び人体から発生するほこり(パーティクル)の発生を防止する為、クリーンスーツを着用し、クリーンルームへ入室します。 | |||
クリーンルームは他と閉ざされた空間となるため、安全管理が必要です。このため安全システム・監視システムを備え、集中的に管理しています。 | クリーンルームへの入室前にエアーシャワーでほこりを除去します。 |
トランジスタ、ダイオード、抵抗等の電流・電圧特性を測定します。 | 薬品の重量を計測します。 | ノマルスキー干渉フィルターを使用すれば、凸凹の分解能が高くなります。通常の顕微鏡としても使用可能です。 |
倍率の細やかな調節やサイズの測定が容易です。 |
フォトレジストを塗布・露光・現像し、1μmまでマスクのパターンをレジストに転写するフォトリソグラフィーと電子
線によるレジスト上へのパターンの直接描画、現像する電子線リソグラフィーが可能です。
電子線によるレジストへの直接描画による数十nm までのリソグラフィーが可能です。 |
紫外線により1μmまでのリソグラフィーが可能です。 | プリベーク(露光前)・ポストベーク(現像後)を行い、レジストを熱で固めます。 | ||
試料に均等にレジストを塗布します。 | 0.5μmまでのマスク合わせが可能です。 |
ドライエッチング装置で、極微細加工としてアスペクト比の大きなエッチング(材料の部分的除去)が可能です。主な対象はシリコン酸化膜などシリコン系材料です。 | 化学薬品などを使用するドラフトで、純度が非常に高い超純水作製装置が取り付けられており、ウェットエッチングに対応しています。 | 酸化力の強いオゾンを発生させてレジストを除去します。 |
ドライエッチング装置で、極微細加工としてアスペクト比の大きなエッチング(材料の部分的除去)が可能です。主な対象はGaAs,InP,GaNなどの化合物半導体材料です。 |
真空チャンバー内で金属(金、アルミ、ニッケル、チタンなど)や酸化物を電子線により加熱し、基板に堆積させます。 | 最高温度1100℃まで窒素、酸素雰囲気中で加熱することができます。主にシリコンの熱酸化膜の作製に利用されます。 | 金属、酸化物、窒化物などターゲットさえ用意できれば基板にそのターゲット素材の薄膜を堆積できます。一般にシリコン酸化膜、窒化膜、ITOやZnOなどの透明電極薄膜が堆積できます。 | ||
GaAsやInPなど各種V-V族化合物半導体薄膜を作製できます。材料を組み合わせることにより超格子、量子井戸、量子ドットの作製が可能です。 |
Al線やAu線などをデバイスの電極に取り付けます。 | 基板にイオン化した不純物を注入することができます。イオン注入後、拡散炉で高温熱処理し、P形、N形の半導体を形成することも可能です。 |
表面粗さ(段差)を数十nmの精度で測定できます。 | 電界放射型の走査型電子顕微鏡で、数nmの観察が可能です。DSWが備わっており、元素の分析ができます。反射電子の計測が可能で、元素の違いや凹凸を明確にすることができます。 | 大気中でのAFM、STM、コンタクトAFM、ケルビンプローブなどの顕微鏡機能でナノ材料評価に適します。 | ||
結晶格子の評価をする装置です。ω−2θロッキングカーブ、逆格子空間の測定が可能で、結晶の組成、欠陥の評価に加え、超格子構造、ナノ結晶の評価も可能です。 |
特殊なシールド材で構成されており、微弱電流や磁場の計測時に使用します。 | 吸音材で構成された実験室で、音響実験などに使用します。 | 薄膜、極微細断面の硬度測定、金属材料の受け入れや金属材料の焼入れ検査、更には電子部品などの硬度測定に威力を発揮します。 | ||
最大24000コマ/秒での高速撮影が可能です。マイクロスコープ感覚で手軽に高速移動体を観察できます。 | XYθステージを標準装備し、レンズを固定したまま生体組織などの蛍光観察が周囲360度から可能です。 | 深さ方向の解像度が高く、微細な凹凸の測定ができます。 | ||
微小エネルギー放電と高精度の工具電極機構により、8〜300ミクロンの微細穴の加工やマイクロスリットの加工が、導電性の材料への加工だけでなくシリコンなどの高比抵抗材料へも可能です。 | 生体細胞などの蛍光現象の観察が可能です。シャッターで自動的に遮光する構造のため、容易に試料をセットできます。 | 7μm径のHeCdレーザーをXYプロッターで走査する超微細光造形機です。積層ピッチは最小1μm、造形寸法は3mm×3mm×3mmです。レーザー光が照射され描画が進む状況をリアルタイムで観察できます |
用途と測定原理 本システムは、大型構造物の計測やロボットや工作機械などの運動体の計測を高精度に行う3次元測定機です。 測定ヘッドに内蔵された2つのエンコーダ(角度)とトラッカー本体内のレーザ干渉計(距離)により3次元座標を算出します。 まず、測定対象に球状リフレクタ(キャッツアイ)を取り付けて使用します。レーザ干渉計から出たレーザは、測定ヘッド(2軸回転反射鏡)により測定空間に照射されます。レーザ光はリフレクタ中心で反射され、再び測定ヘッドを通過しトラッカー本体のポジションディテクタに戻ります。ポジションディテクタでは、レーザ光の移動量を検出することにより、レーザ光をリフレクタの中心が一致するように、測定ヘッドのモータを制御します。これにより測定ヘッドはリフレクタを追尾することができます。 |
ロボットを含むマルチボディシミュレーションを行うツールです。 完全な動的システムを作成できるように、制御/油圧要素を完備すると共に、MATLABなどの制御系ソフトウェアとのインターフェイスも用意されています。 ロボットの動作軌道や運動解析を3Dグラフィックスで表示しながら確認することが可能です。主な機能は次の通りです。 ・簡便なモデリング機能 ・高精度な解析機能 ・多彩なポスト処理機能 ・弾性体機能 |
温度だけでなく、湿度や照度までも設定できる装置です。キノコの発生には湿度や照度の管理が重要なため、この装置を使用しています。 | 試料に大きな遠心力をかけることにより、その成分を分離することができます。さらに、この実験室にある遠心分離機は温度も設定できるため、熱に弱いタンパク質を扱う際などには重宝されます。 | ||||
この装置内では室温を低温に保つことができます。ヤコウタケの菌糸の保存や低温での実験をする際に使用します。 | 純水よりもさらに純度の高い超純水を製造する装置です。有機合成や培養で使用する水はこの装置の水を使用します。 | 4〜50℃の温度で振盪培養できる装置です。菌糸の培養や温度調節が必要な酵素を用いた培養実験に使用します。 | |||
高温・高圧下で水蒸気によって滅菌する装置です。ヤコウタケの培地の滅菌に使用します。 | 装置内を定温に調節・維持することができます。おもに菌糸培養で使用します。 | 無菌状態で作業を行うことができ、菌糸を寒天やピートの培地に植える際、雑菌の汚染を防ぐために使用します。 |