| ケースレー社 | 管理責任者： | 田尻武義 | 情報・ネットワーク工学専攻 | 設置場所： | 東6-138-2 |
装置概要
- 本装置は液体ヘリウム温度から高温まで温度を変えて材料(主に半導体)の抵抗率、 キャリア濃度、移動度を測定できる。
- 特に、抵抗の低いものから高いものまで幅広い範囲の抵抗が正確に測定できるのを特徴とする。
- その上、ダイオード、トランジスタ (FET、バイポーラ）などデバイスの電流・電圧特性を液体ヘリウム温度から高温まで 温度を変えての、また各温度で磁場をかけての測定ができる。
測定できる物質、状態、大きさ等
- 導電性のある試料及びデバイス、試料サイズは要相談
