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設備紹介

表面・界面構造解析室(基盤研究設備部門)

X線光電子分光装置(日本電子,JPS-9200)
イオンマイクロアナライザ(ATOMIKA社,SIMS4000)
熱電子放出型走査電子顕微鏡(日立(株),S-3500H)
結晶方位分散分析走査電子顕微鏡(日立(株),S-4300/EBSD)
温度可変超高真空原子間力顕微鏡(Omicron,VT・AFM)
200kV熱電子放出型透過型電子顕微鏡(日本電子(株),JEM-2010)
200kV電界放出型透過型電子顕微鏡(日本電子(株),JEM-2100F)
電子線元素状態分析装置(日本電子(株),JXA-8900)

化学構造解析室(基盤研究設備部門)

超伝導フーリエ変換NMR(500MHz)(日本電子(株),ECA-500)
LCQイオントラップ型質量分析計(Thermo Scientific社、LCQ Fleet)
超伝導フーリエ変換NMR(300MHz)(Varian社,Unity 300)
円二色性分散計(日本分光(株),J-720W)
二重収束質量分析計(EI,FAB,GC/MS)(日本電子(株),JMS-600)
熱分析装置((株)リガク,DSC8230・TG8120)
CCD型単結晶X線回折装置((株)リガク,Saturn70 CCD)
DSC粉末X線同時測定装置((株)リガク,Ultima III)
ESI - TOF型質量分析装置(日本電子(株),JMS-T100 AccuTOF)
有機元素分析装置(PerkinElmer、Series II CHNS/O 2400)
共焦点レーザー走査型蛍光顕微鏡(Carl Zweiss, LSM710)

分析・計測機器室(基盤研究設備部門)

最先端三次元形状測定・評価システム(ZWEISS, PRISMO Navigator 5 S-ACC mass)
超伝導量子干渉型磁束計(Quantum Design社,MPMS-XL7)
電子スピン共鳴装置(Brucker 社, ELEXSYS)
高磁場多目的物性測定システム(Quantum Design社,PPMS)
低温粉末X線回折装置(マックサイエンス(現BrukerAXS),M18XHF22)
高速応答FT-IR(Thermo Scientific社, Nicolet 6700)
顕微レーザーラマン分光計(日本分光(株),NRS-3100)
温度可変ホール測定装置(ケースレー)
マクロフォトルミネッセンス測定装置(堀場製作所、PHOTOLUMINATOR)
フラッシュ法熱物性測定装置(Bruker AXS、NETZSCH LFA447 NanoFlash)
絶対PL量子収率測定装置(浜松フォトニクス、Quantaurus-QY)
電波暗室(TDK-EPC(株),(株)デバイス,Agilent Tech.(株))
無響室

低温室(低温部門)

ヘリウム液化システム(小池酸素工業(株))

移動、廃棄した設備

超高真空走査形トンネル顕微鏡(日本電子(株),JSTM-4500XT)
微小部X線応力測定装置((株)リガク,RINT-2500)
4軸型単結晶X線回折装置((株)リガク,AFC-7R)

【学内向け】携帯用小設備

サーベイメータ(ROTEM社,RAM DA-2000,IC-10A-P )
ポケット線量計(ALOKA社,PDM-122-SZ)

設備関連ドキュメント